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2025年中國半導(dǎo)體光刻膠?行業(yè)政策、產(chǎn)業(yè)鏈圖譜、發(fā)展現(xiàn)狀、企業(yè)布局及未來發(fā)展趨勢研判:國產(chǎn)替代加速,光刻膠百億空間開啟[圖]

內(nèi)容概要:半導(dǎo)體光刻膠作為光刻工藝核心耗材,通過光照改變?nèi)芙舛龋珳?zhǔn)復(fù)制電路圖形至晶圓,其性能直接影響芯片分辨率、良率與成本,是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈技術(shù)壁壘最高的環(huán)節(jié)之一。我國高度重視其發(fā)展,出臺(tái)了多層次政策文件,從產(chǎn)業(yè)規(guī)劃、財(cái)稅支持、應(yīng)用推廣等多維度發(fā)力,為技術(shù)研發(fā)、產(chǎn)能建設(shè)與下游導(dǎo)入提供系統(tǒng)性保障,推動(dòng)行業(yè)加速發(fā)展。當(dāng)前,我國半導(dǎo)體材料行業(yè)處于關(guān)鍵發(fā)展階段,基礎(chǔ)材料批量供應(yīng)能力提升,高端材料也實(shí)現(xiàn)關(guān)鍵技術(shù)突破,2024年市場規(guī)模達(dá)134.6億美元。其中,半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)2024年市場規(guī)模約56.3億元,KrF光刻膠成中高端替代主力,ArF光刻膠實(shí)現(xiàn)關(guān)鍵突破。本土企業(yè)已形成多層次產(chǎn)業(yè)梯隊(duì),南大光電、彤程新材等頭部企業(yè)實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)并導(dǎo)入供應(yīng)鏈。未來,行業(yè)將沿技術(shù)攻堅(jiān)、生態(tài)協(xié)同與格局重構(gòu)三大主線演進(jìn),實(shí)現(xiàn)高端突破、生態(tài)閉環(huán)與差異化競爭,推動(dòng)高質(zhì)量自主可控轉(zhuǎn)型。


上市企業(yè):彤程新材(603650.SH)、南大光電(300346.SZ)、晶瑞電材(300655.SZ)、華懋科技(603306.SH)、上海新陽(300236.SZ)、雅克科技(002409.SZ)


相關(guān)企業(yè):北京科華微電子材料有限公司、徐州博康信息化學(xué)品有限公司、山東同益光刻膠材料科技有限公司、濰坊星泰克微電子材料有限公司、徐州大晶新材料科技集團(tuán)有限公司、河北立業(yè)化學(xué)制品有限公司、徐州瑞義新材料有限公司、常州強(qiáng)力先端電子材料有限公司、安徽納特威新材料科技有限公司


關(guān)鍵詞:半導(dǎo)體光刻膠?、芯片制造、半導(dǎo)體材料、半導(dǎo)體光刻膠政策、半導(dǎo)體光刻膠?行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈、半導(dǎo)體光刻膠?發(fā)展現(xiàn)狀、半導(dǎo)體光刻膠市場規(guī)模、半導(dǎo)體光刻膠?企業(yè)布局、半導(dǎo)體光刻膠?發(fā)展趨勢


一、半導(dǎo)體光刻膠?行業(yè)相關(guān)概述


半導(dǎo)體光刻膠,又稱光致抗蝕劑,是一種通過紫外光、電子束、離子束、X射線等照射或輻射后,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕刻薄膜材料。作為光刻工藝的核心耗材,光刻膠在半導(dǎo)體制造中扮演著將掩模版上的電路圖形精準(zhǔn)復(fù)制到晶圓表面的關(guān)鍵角色。其性能直接影響芯片的分辨率、良率和制造成本,是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈中技術(shù)壁壘最高的環(huán)節(jié)之一。


半導(dǎo)體光刻膠根據(jù)曝光光源波長進(jìn)行分類,其技術(shù)難度與波長縮短而遞增。G線光刻膠(436nm)適用于0.5μm以上成熟制程;I線光刻膠(365nm)分辨率更高,廣泛應(yīng)用于55nm以上邏輯與存儲(chǔ)芯片;KrF光刻膠(248nm)需配合抗反射涂層,主要用于28-90nm制程的輔助層;ArF光刻膠(193nm)作為主流先進(jìn)制程材料,通過干法與浸沒式技術(shù)支撐7-28nm節(jié)點(diǎn);EUV光刻膠(13.5nm)則專攻7nm以下尖端制程,目前僅極少數(shù)企業(yè)實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),代表了該領(lǐng)域最高技術(shù)壁壘。

半導(dǎo)體光刻膠分類


、中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)政策


光刻膠作為半導(dǎo)體制造的核心功能性材料,其發(fā)展一直受到國家政策的大力支持。近年來,我國圍繞集成電路與新材料產(chǎn)業(yè)構(gòu)建了多層次、全方位的政策體系,先后出臺(tái)《新時(shí)期促進(jìn)集成電路產(chǎn)業(yè)和軟件產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展的若干政策》《“十四五”原材料工業(yè)發(fā)展規(guī)劃》《重點(diǎn)新材料首批次應(yīng)用示范指導(dǎo)目錄(2024年版)》《電子信息制造業(yè)2025-2026年穩(wěn)增長行動(dòng)方案》以及《關(guān)于開展2025年度享受增值稅加計(jì)抵減政策的集成電路企業(yè)清單制定工作的通知》等關(guān)鍵文件。這些政策從產(chǎn)業(yè)規(guī)劃、財(cái)稅支持、應(yīng)用推廣、技術(shù)攻關(guān)等多個(gè)維度協(xié)同發(fā)力,不僅將光刻膠明確列為重點(diǎn)突破的新材料,還通過稅收減免、首臺(tái)套保險(xiǎn)補(bǔ)償、示范應(yīng)用牽引等機(jī)制,為半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)的技術(shù)研發(fā)、產(chǎn)能建設(shè)和下游導(dǎo)入提供了系統(tǒng)性保障,有力推動(dòng)了行業(yè)從技術(shù)攻關(guān)到產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用的加速發(fā)展。

中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)相關(guān)政策


、中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈


中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈上中下游協(xié)同聯(lián)動(dòng)且國產(chǎn)化進(jìn)程梯度分明,上游以樹脂、光引發(fā)劑、溶劑等核心原材料及生產(chǎn)檢測設(shè)備為支撐,國內(nèi)企業(yè)在中低端原材料(如酚醛樹脂、PGMEA溶劑)領(lǐng)域已實(shí)現(xiàn)較高自給率,高端樹脂、特殊添加劑等仍需突破;中游聚焦光刻膠的配方研發(fā)與生產(chǎn)制造,呈現(xiàn)“成熟制程突破、先進(jìn)制程追趕”格局,G/I線、KrF光刻膠已批量供貨,ArF光刻膠進(jìn)入驗(yàn)證上量階段,EUV光刻膠尚處研發(fā)期;下游核心為集成電路制造企業(yè),覆蓋邏輯芯片、存儲(chǔ)芯片等應(yīng)用場景,中芯國際、長江存儲(chǔ)等頭部廠商需求旺盛,雖設(shè)置嚴(yán)格的供應(yīng)商認(rèn)證門檻,但國產(chǎn)替代意愿強(qiáng)烈,持續(xù)牽引產(chǎn)業(yè)鏈向高端化升級(jí)。

中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈圖譜


作為全球最大的芯片消費(fèi)市場之一,我國在AI算力、新能源汽車等新興應(yīng)用領(lǐng)域呈現(xiàn)爆發(fā)式增長,催生了對(duì)各類芯片的強(qiáng)勁需求。在此帶動(dòng)下,我國芯片制造行業(yè)持續(xù)快速發(fā)展,2024年市場規(guī)模已達(dá)1.43萬億元,同比增長16.58%,預(yù)計(jì)2025年將進(jìn)一步提升至1.62萬億元。芯片產(chǎn)業(yè)的蓬勃發(fā)展為半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)帶來了明確的市場增長動(dòng)力與技術(shù)升級(jí)需求,推動(dòng)光刻膠產(chǎn)品向更高精度、更強(qiáng)工藝適配性方向迭代,為產(chǎn)業(yè)鏈上游材料環(huán)節(jié)創(chuàng)造了持續(xù)擴(kuò)容的市場空間。

2020-2025年中國芯片行業(yè)市場規(guī)模及預(yù)測(單位:億元)


相關(guān)報(bào)告:智研咨詢發(fā)布的《中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)市場全景調(diào)研及產(chǎn)業(yè)趨勢研判報(bào)告


、中國半導(dǎo)體光刻膠?行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀分析


當(dāng)前我國半導(dǎo)體材料行業(yè)正處于規(guī)??焖贁U(kuò)張、結(jié)構(gòu)高端升級(jí)與國產(chǎn)替代加速的關(guān)鍵發(fā)展階段。在產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同與技術(shù)攻堅(jiān)的推動(dòng)下,硅片、電子特氣、濕化學(xué)品等基礎(chǔ)材料已實(shí)現(xiàn)批量供應(yīng)能力,12英寸大硅片國產(chǎn)化率從早期不足10%逐步提升至30%,高純度電子特氣(6N級(jí)以上)成功導(dǎo)入主流晶圓產(chǎn)線;與此同時(shí),光刻膠、CMP拋光墊、高純靶材等高端材料也在關(guān)鍵技術(shù)層面實(shí)現(xiàn)突破,其中KrF/ArF光刻膠已進(jìn)入量產(chǎn)驗(yàn)證階段,部分領(lǐng)先企業(yè)實(shí)現(xiàn)小批量供貨。數(shù)據(jù)顯示:2024年,我國半導(dǎo)體材料市場規(guī)模達(dá)134.6億美元,同比增長約2.85%,顯示出穩(wěn)健的產(chǎn)業(yè)擴(kuò)張態(tài)勢。

2020-2024年中國大陸半導(dǎo)體材料市場規(guī)模(單位:億美元)


在眾多半導(dǎo)體材料中,光刻膠憑借其技術(shù)壁壘與高附加值,成為產(chǎn)業(yè)鏈的“價(jià)值擔(dān)當(dāng)”之一。在半導(dǎo)體晶圓制造的材料成本結(jié)構(gòu)中,光刻膠約占6%,是繼硅片、電子特氣、光掩模之后的第四大關(guān)鍵材料,其國產(chǎn)化進(jìn)程與技術(shù)水平直接關(guān)系到我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的自主可控與整體競爭力。

半導(dǎo)體材料市場占比


近年來,隨著芯片制程向更先進(jìn)節(jié)點(diǎn)持續(xù)演進(jìn),市場對(duì)高端光刻膠的需求日益迫切,推動(dòng)我國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)進(jìn)入快速發(fā)展階段。2024年,行業(yè)市場規(guī)模約56.3億元人民幣,展現(xiàn)出強(qiáng)勁的增長勢頭。在國產(chǎn)替代方面,KrF光刻膠已成為中高端領(lǐng)域替代的主力,而更高端的ArF光刻膠也實(shí)現(xiàn)關(guān)鍵突破,自給率預(yù)計(jì)將從2024年的不足10%提升至2025年的15%以上。與此同時(shí),以北京大學(xué)科研團(tuán)隊(duì)利用冷凍電子斷層掃描技術(shù)解析光刻膠分子微觀行為為代表的基礎(chǔ)研究突破,為行業(yè)在缺陷控制等關(guān)鍵工藝難題的解決注入了核心驅(qū)動(dòng)力。在此背景下,南大光電、彤程新材等本土頭部企業(yè)已在特定高端產(chǎn)品領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)量產(chǎn)并成功導(dǎo)入客戶供應(yīng)鏈,共同推動(dòng)國產(chǎn)替代進(jìn)程不斷提速,行業(yè)整體競爭力持續(xù)增強(qiáng)。

2020-2025年中國半導(dǎo)體光刻膠市場規(guī)模及預(yù)測(單位:億元)


、中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)企業(yè)競爭格局


中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)呈現(xiàn)出“海外巨頭壟斷高端、本土企業(yè)逐級(jí)突破”的競爭格局。目前,日本JSR、東京應(yīng)化、信越化學(xué)及美國杜邦等企業(yè)占據(jù)全球約87%的市場份額,其中東京應(yīng)化在多個(gè)細(xì)分領(lǐng)域占據(jù)領(lǐng)先地位:其EUV光刻膠市占率38.0%,KrF光刻膠36.6%,g/i線光刻膠22.8%,均位列全球第一;ArF光刻膠則以16.2%的市占率位居全球第四,持續(xù)主導(dǎo)高端光刻膠市場。在國內(nèi)市場,盡管外資企業(yè)仍占主導(dǎo),但本土企業(yè)憑借政策支持與下游驗(yàn)證機(jī)會(huì),正形成“成熟制程站穩(wěn)、中高端持續(xù)上攻”的替代態(tài)勢——G/I線光刻膠國產(chǎn)化率不斷提升,KrF成為替代主力,ArF光刻膠實(shí)現(xiàn)從零到有的量產(chǎn)突破,EUV光刻膠則尚處于研發(fā)階段。

全球半導(dǎo)體光刻膠企業(yè)競爭梯隊(duì)


從本土企業(yè)布局來看,已形成多層次、差異化的產(chǎn)業(yè)梯隊(duì)。南大光電作為ArF光刻膠國產(chǎn)領(lǐng)航者,已實(shí)現(xiàn)28nm產(chǎn)品量產(chǎn)并推進(jìn)7nm驗(yàn)證,寧波基地產(chǎn)能持續(xù)擴(kuò)張;彤程新材(含北京科華)是KrF膠龍頭,市占率超40%,同時(shí)推進(jìn)ArF濕法膠量產(chǎn)與EUV封裝膠研發(fā);晶瑞電材(含蘇州瑞紅)為國內(nèi)唯一覆蓋G/I/KrF/ArF全系列的企業(yè),G線市占率居首;上海新陽以“光刻膠+配套材料”協(xié)同發(fā)展為特色;華懋科技(含徐州博康)依托“單體-樹脂-成品”垂直整合實(shí)現(xiàn)成本自主;雅克科技通過收購布局顯示光刻膠,其半導(dǎo)體前驅(qū)體全球市占超20%;容大感光從PCB光刻膠向半導(dǎo)體封測領(lǐng)域延伸;強(qiáng)力新材則作為光引發(fā)劑關(guān)鍵供應(yīng)商,參股蘇州瑞紅并配套中高端輔料。各企業(yè)均與頭部晶圓廠深度綁定,共同推動(dòng)國產(chǎn)替代進(jìn)程加速。

中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)相關(guān)企業(yè)布局情況


、中國半導(dǎo)體光刻膠?行業(yè)發(fā)展趨勢分析


中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)未來將沿著技術(shù)攻堅(jiān)、生態(tài)協(xié)同與格局重構(gòu)三大主線加速演進(jìn),呈現(xiàn)“高端突破、生態(tài)閉環(huán)、差異化競爭”的核心趨勢。技術(shù)層面,將從KrF光刻膠的穩(wěn)定量產(chǎn)向ArF干濕法產(chǎn)品的制程適配縱深突破,聚焦線寬控制、缺陷密度等關(guān)鍵指標(biāo)優(yōu)化,同時(shí)啟動(dòng)EUV光刻膠及下一代材料的前瞻性研發(fā),同步推進(jìn)核心原材料自主化與環(huán)保配方升級(jí)。產(chǎn)業(yè)生態(tài)上,“單體-樹脂-成品”垂直整合模式加速落地,光刻膠企業(yè)與晶圓廠、設(shè)備廠商建立聯(lián)合開發(fā)機(jī)制以縮短驗(yàn)證周期,長三角等產(chǎn)業(yè)集群進(jìn)一步集聚研發(fā)、中試與量產(chǎn)資源,形成全鏈條協(xié)同創(chuàng)新體系。競爭格局中,本土企業(yè)將在中高端領(lǐng)域憑借性價(jià)比與快速響應(yīng)優(yōu)勢擴(kuò)大份額,通過并購或細(xì)分場景聚焦構(gòu)建特色競爭力,與國際巨頭形成差異化博弈,在政策持續(xù)加碼與下游需求拉動(dòng)下,逐步實(shí)現(xiàn)從“替代”到“優(yōu)選”的跨越,推動(dòng)行業(yè)向高質(zhì)量自主可控轉(zhuǎn)型。具體發(fā)展趨勢如下:


1、技術(shù)攻堅(jiān):從“成熟突圍”向“尖端追趕”縱深突破


技術(shù)演進(jìn)將成為行業(yè)發(fā)展的核心主線,呈現(xiàn)階梯式突破態(tài)勢。在中高端領(lǐng)域,KrF光刻膠將從“驗(yàn)證放量”轉(zhuǎn)向“穩(wěn)定量產(chǎn)”,聚焦良率提升與成本優(yōu)化,深度適配成熟制程晶圓廠的規(guī)?;枨?。ArF光刻膠則加速干濕法產(chǎn)品的技術(shù)迭代,重點(diǎn)攻克線寬均勻性、缺陷密度控制等關(guān)鍵指標(biāo),推動(dòng)與14nm及以下先進(jìn)制程的工藝適配。同時(shí),面向HighNAEUV設(shè)備的新一代光刻膠研發(fā)提上日程,產(chǎn)學(xué)研機(jī)構(gòu)將圍繞樹脂分子設(shè)計(jì)、光敏響應(yīng)效率等核心難題聯(lián)合攻關(guān),同步推進(jìn)無金屬離子等環(huán)保配方升級(jí),以應(yīng)對(duì)國際技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)與環(huán)保法規(guī)的雙重要求。


2、產(chǎn)業(yè)協(xié)同:構(gòu)建“垂直整合+生態(tài)聯(lián)動(dòng)”發(fā)展格局


行業(yè)競爭格局將呈現(xiàn)“高端守勢、中端突圍”的差異化博弈態(tài)勢。國際巨頭仍將主導(dǎo)EUV等尖端光刻膠市場,但本土企業(yè)將在KrF、ArF成熟品類中憑借性價(jià)比與快速響應(yīng)優(yōu)勢擴(kuò)大份額,逐步實(shí)現(xiàn)從“替代”到“優(yōu)選”的轉(zhuǎn)變。部分本土企業(yè)將通過并購、參股等方式整合技術(shù)資源,或聚焦先進(jìn)封裝等細(xì)分場景形成特色競爭力。同時(shí),地緣政治與供應(yīng)鏈安全考量推動(dòng)區(qū)域化競爭加劇,本土企業(yè)將依托國內(nèi)晶圓廠擴(kuò)產(chǎn)需求夯實(shí)市場基礎(chǔ),而國際巨頭也可能調(diào)整在華策略,行業(yè)競爭將從單純的技術(shù)比拼轉(zhuǎn)向“技術(shù)+成本+生態(tài)”的綜合實(shí)力較量。


3、競爭重構(gòu):本土企業(yè)與國際巨頭的“差異化博弈”


行業(yè)競爭格局將呈現(xiàn)“高端守勢、中端突圍”的差異化博弈態(tài)勢。國際巨頭仍將主導(dǎo)EUV等尖端光刻膠市場,但本土企業(yè)將在KrF、ArF成熟品類中憑借性價(jià)比與快速響應(yīng)優(yōu)勢擴(kuò)大份額,逐步實(shí)現(xiàn)從“替代”到“優(yōu)選”的轉(zhuǎn)變。部分本土企業(yè)將通過并購、參股等方式整合技術(shù)資源,或聚焦先進(jìn)封裝等細(xì)分場景形成特色競爭力。同時(shí),地緣政治與供應(yīng)鏈安全考量推動(dòng)區(qū)域化競爭加劇,本土企業(yè)將依托國內(nèi)晶圓廠擴(kuò)產(chǎn)需求夯實(shí)市場基礎(chǔ),而國際巨頭也可能調(diào)整在華策略,行業(yè)競爭將從單純的技術(shù)比拼轉(zhuǎn)向“技術(shù)+成本+生態(tài)”的綜合實(shí)力較量。


以上數(shù)據(jù)及信息可參考智研咨詢(www.thewallstreetmoneymachine.com)發(fā)布的《中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)市場全景調(diào)研及產(chǎn)業(yè)趨勢研判報(bào)告》。智研咨詢是中國領(lǐng)先產(chǎn)業(yè)咨詢機(jī)構(gòu),提供深度產(chǎn)業(yè)研究報(bào)告、商業(yè)計(jì)劃書、可行性研究報(bào)告及定制服務(wù)等一站式產(chǎn)業(yè)咨詢服務(wù)。您可以關(guān)注【智研咨詢】公眾號(hào),每天及時(shí)掌握更多行業(yè)動(dòng)態(tài)。

本文采編:CY379
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2026-2032年中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)市場全景調(diào)研及產(chǎn)業(yè)趨勢研判報(bào)告
2026-2032年中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)市場全景調(diào)研及產(chǎn)業(yè)趨勢研判報(bào)告

《2026-2032年中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)市場全景調(diào)研及產(chǎn)業(yè)趨勢研判報(bào)告》共十章,包含中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)發(fā)展環(huán)境洞察&SWOT分析,中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)市場前景及發(fā)展趨勢分析,中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)投資戰(zhàn)略規(guī)劃策略及建議等內(nèi)容。

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