2018年我國(guó)高純?yōu)R射靶材行業(yè)市場(chǎng)規(guī)模分析預(yù)測(cè)【圖】

    按照應(yīng)用領(lǐng)域不同，電子濺射靶材可以分為半導(dǎo)體靶材、平面靶材、鍍膜玻璃靶材、太陽(yáng)能光伏靶材等，不同應(yīng)用領(lǐng)域?qū)饘俨牧系倪x擇和性能要求存在一定的差異，其中半導(dǎo)體集成電路用的濺射靶材技術(shù)要求最高，最苛刻。

靶材的主要種類與用途

數(shù)據(jù)來(lái)源：公開資料整理

    相關(guān)報(bào)告：智研咨詢發(fā)布的《2017-2023年中國(guó)高純?yōu)R射靶材市場(chǎng)調(diào)查研究及投資機(jī)會(huì)分析報(bào)告》

    濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈主要包括金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和終端應(yīng)用等環(huán)節(jié)，其中，靶材制造和濺射鍍膜環(huán)節(jié)是整個(gè)濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈中的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。高純?yōu)R射靶材制造環(huán)節(jié)技術(shù)門檻高、設(shè)備投資大，具有規(guī)?；a(chǎn)能力的企業(yè)數(shù)量相對(duì)較少，主要分布在美國(guó)、日本等國(guó)家和地區(qū)，其中，部分企業(yè)同時(shí)開展金屬提純業(yè)務(wù)，將產(chǎn)業(yè)鏈延伸到上游領(lǐng)域；部分企業(yè)只擁有濺射靶材生產(chǎn)能力，高純度金屬需要上游企業(yè)供應(yīng)。尤其是半導(dǎo)體用濺射靶材領(lǐng)域，是一個(gè)被由美國(guó)和日本的少數(shù)公司（日礦金屬、霍尼韋爾、東曹、普萊克斯）等跨國(guó)公司壟斷的行業(yè)。

    由于下游產(chǎn)業(yè)蓬勃發(fā)展，濺射靶材的市場(chǎng)需求量也在快速提高，尤其是制作工藝更高的高純?yōu)R射靶材（純度：99.9%-99.999%），更是供不應(yīng)求，呈現(xiàn)高速增長(zhǎng)的勢(shì)頭。2020年全球?yàn)R射靶材的總市場(chǎng)規(guī)模將超過(guò)160億美元，而高純?yōu)R射靶材市場(chǎng)規(guī)模年復(fù)合增長(zhǎng)率可達(dá)到13%。高純?yōu)R射靶材主要對(duì)應(yīng)平板顯示、半導(dǎo)體、記錄媒體與太陽(yáng)能電池四大領(lǐng)域。

全球高純?yōu)R射靶材市場(chǎng)規(guī)模

數(shù)據(jù)來(lái)源：公開資料整理

    在半導(dǎo)體領(lǐng)域，根據(jù)數(shù)據(jù)，2015年全球市場(chǎng)規(guī)模為13億美元（其中晶圓制造領(lǐng)域6.3億美元，封測(cè)領(lǐng)域5.5億美元），占全球高純靶材市場(chǎng)的12%。受益于近年來(lái)中國(guó)集成電路制造和封測(cè)產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，中國(guó)大陸半導(dǎo)體靶材市場(chǎng)規(guī)模呈現(xiàn)快速增長(zhǎng)，2015年市場(chǎng)規(guī)模為11.5億元。

2012-2017年全球半導(dǎo)體高純靶材市場(chǎng)規(guī)模（億美元）

數(shù)據(jù)來(lái)源：公開資料整理

2011-2016年中國(guó)半導(dǎo)體靶材市場(chǎng)規(guī)模

數(shù)據(jù)來(lái)源：公開資料整理

    由于高純?yōu)R射靶材對(duì)材料的純度、穩(wěn)定性要求極高，因此屬于技術(shù)密集型產(chǎn)業(yè)，對(duì)供應(yīng)商的技術(shù)能力要求苛刻，目前主要被日本和美國(guó)企業(yè)所壟斷。