中國及全球半導體光刻膠市場規(guī)模發(fā)展分析[圖]

    光刻膠是印刷線路板、顯示面板、集成電路等電子元器件的上游，公司生產的光引發(fā)劑（包括光增感劑、光致產酸劑）和光刻膠樹脂等專用化學品是體現(xiàn)光刻膠性能的最重要原料，是光刻膠產業(yè)鏈的源頭。

    目前集成電路的集成水平已由原來的微米級水平進入納米級水平，為了匹配集成電路的發(fā)展水平，制備超凈高純試劑的純度也由SEMIG1逐漸提升至到SEMIG4級水平，制備光刻膠的分辨率水平由紫外寬譜向g線、i線、KrF、ArF、F2以及更高端方向發(fā)展，同時功能性材料配方的精準度和效能的穩(wěn)定性也逐漸向更高技術等級水平發(fā)展。

    248nm及以上高端光刻膠為全球市場的主流。據(jù)調查數(shù)據(jù)顯示，2016年全球半導體用光刻膠市場達到14.5億美元，較2015年同比增長9.0%。其中，248nm光刻膠占31%，193nm及其它先進光刻膠占46%。預計2018年全球光刻膠市場將達到15.7億美元。光刻膠配套試劑方面，2016年全球光刻膠配套試劑市場達到19.1億美元，較2015年增長6.1%。預計2018年全球光刻膠配套試劑市場將達到20.4億美元。

2012-2018年全球半導體光刻膠及配套試劑市場規(guī)模

數(shù)據(jù)來源：公開資料整理

2012-2018年中國半導體光刻膠及配套試劑市場規(guī)模

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    全球共有9家主要的光刻膠生產企業(yè)。其中，日本占到5家，美國、歐洲、韓國、臺灣地區(qū)各占1家。這9家企業(yè)市場份額超過90%，日本技術和生產規(guī)模占絕對優(yōu)勢，5家日本企業(yè)市場份額超過70%。

    國內半導體光刻膠技術和國外先進技術差距較大，僅在市場用量最大的G線和I線有產品進入下游供應鏈。KrF線和ArF線光刻膠核心技術基本被國外企業(yè)壟斷，國內北京科華KrF(248nm)光刻膠目前已經(jīng)通過中芯國際認證，其他處于研發(fā)階段，ArF(193nm)光刻膠還在積極研發(fā)中。目前國內從事光刻膠研發(fā)和生產的單位主要有北京科華微電子材料有限公司和蘇州瑞紅電子化學品有限公司、濰坊星泰克微電子材料有限公司。

    未來，隨著功率半導、傳感器、LED市場的持續(xù)擴大，i線光刻膠市場將保持持續(xù)增長。隨著精細化需求增加，使用i線光刻膠的應用將被KrF光刻膠替代，KrF光刻膠市場需求將不斷增加。ArF光刻膠對應IC制程節(jié)點最為先進，在7nm制程的EUV技術成熟之前，ArF光刻膠仍將是主流，隨著雙/多重曝光技術的使用，光刻膠的使用次數(shù)增加，ArF光刻膠的市場需求將加速擴大。

2016-2023年全球半導體光刻膠市場規(guī)模及預測

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2017年全球半導體光刻膠分類市場占比

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    從中國產品市場來看，PCB光刻膠市場份額占比最多，高達94.4%。LCD光刻膠市場份額占比第二，為2.7%。半導體光刻膠市場份額占比位居第三，僅為1.6%?？傮w看來，中國市場PCB光刻膠占據(jù)大部分市場份額，LCD光刻膠和半導體光刻膠所占份額非常低。

2017年中國光刻膠分類市場份額占比

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    中國半導體光刻膠市場規(guī)模占全球比重最大，約為32%

    2017年，從全球區(qū)域市場來看，中國半導體光刻膠市場規(guī)模占全球比重最大，達到32%。其次是美洲地區(qū)，其光刻膠市場規(guī)模占全球比重為21%。亞太地區(qū)緊跟其后，光刻膠市場規(guī)模占全球比重為20%。歐洲、日本地區(qū)所占比重較低，大約均為9%。

2017年各地區(qū)半導體光刻膠市場份額占比

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    相關報告：智研咨詢發(fā)布的《2019-2025年中國光刻膠行業(yè)市場供需預測及發(fā)展前景預測報告》